露點(diǎn)負(fù)50雙層干燥攪拌料斗干燥系統(tǒng)

露點(diǎn)負(fù)50雙層干燥攪拌料斗干燥系統(tǒng)，露點(diǎn)負(fù)50雙層干燥攪拌料斗干燥系統(tǒng)，PET結(jié)晶干燥機(jī)，PLA結(jié)晶干燥除濕--- ### **露點(diǎn)-50℃雙層干燥攪拌料斗干燥系統(tǒng)技術(shù)方案** 針對(duì)高吸濕性材料（如PLA、PGA、PCL等生物基塑料）的極端干燥需求，本系統(tǒng)通過**雙層干燥攪拌料斗+深度除濕技術(shù)**實(shí)現(xiàn)**露點(diǎn)-50℃以下**，確保含水率≤30ppm，同時(shí)防止物料結(jié)塊、提升干燥均勻性。以下是詳細(xì)設(shè)計(jì)方案： --- #### **一、系統(tǒng)核心組成與技術(shù)參數(shù)** | **模塊** | **功能與技術(shù)亮點(diǎn)** | **關(guān)鍵參數(shù)** | |------------------------|---------------------------------------------------------------------------------|----------------------------------------------------------------------------| | **1. 分子篩轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)組** | 采用13X沸石分子篩，雙轉(zhuǎn)輪交替吸附再生，實(shí)現(xiàn)露點(diǎn)-50℃~-60℃。 | - 處理風(fēng)量：2000~5000m3/h
- 再生溫度：200~250℃
- 能耗：0.08kWh/kg水 | | **2. 雙層攪拌干燥料斗** | 上下雙干燥倉設(shè)計(jì)，預(yù)干燥（80℃）與深度干燥（100℃）分離，螺旋攪拌+氮?dú)廨o助穿透。 | - 容量：1000L（上層）+ 800L（下層）
- 攪拌轉(zhuǎn)速：5~20rpm（變頻可調(diào)）
- 熱風(fēng)穿透率≥98% | | **3. 超低溫冷干機(jī)組** | 預(yù)冷卻新風(fēng)至5℃，降低分子篩負(fù)荷，提升除濕效率。 | - 制冷量：50kW
- 出風(fēng)溫度：5℃±1℃
- 冷媒：R410A環(huán)保制冷劑 | | **4. 氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng)** | 向料斗注入干燥氮?dú)猓饵c(diǎn)-70℃），防止物料氧化，輔助水分脫附。 | - 氮?dú)饧兌龋骸?9.999%
- 流量控制：0.5~2m3/min（PID調(diào)節(jié)） | | **5. 智能監(jiān)控系統(tǒng)** | 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)露點(diǎn)、含水率、料溫，自動(dòng)調(diào)節(jié)干燥參數(shù)，支持?jǐn)?shù)據(jù)追溯與遠(yuǎn)程運(yùn)維。 | - 露點(diǎn)傳感器：±1℃精度
- 水分儀：近紅外在線檢測(cè)（±3ppm）
- 兼容OPC UA通訊協(xié)議 | --- #### **二、雙層干燥料斗設(shè)計(jì)詳解** ##### **1. 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)** - **上層預(yù)干燥倉**： - 材質(zhì)：304不銹鋼（鏡面拋光，Ra≤0.4μm）。 - 功能：80℃熱風(fēng)去除表面水分（含水率從1%降至0.1%）。 - **下層深度干燥倉**： - 材質(zhì)：316L不銹鋼（耐高溫腐蝕）。 - 功能：100℃超干熱風(fēng)（露點(diǎn)-50℃）結(jié)合氮?dú)獯┩福省?0ppm。 ##### **2. 防結(jié)塊攪拌系統(tǒng)** - **螺旋葉片**： - 雙螺旋異向攪拌，消除物料死角。 - 表面特氟龍涂層（摩擦系數(shù)<0.1），防止PLA粘附。 - **氮?dú)鈬娏鬏o助**： - 底部多孔板噴射氮?dú)?，使物料流態(tài)化，提升熱交換效率30%。 ##### **3. 熱風(fēng)分布優(yōu)化** - **多級(jí)導(dǎo)流板**：確保熱風(fēng)均勻穿透料層（風(fēng)速偏差≤5%）。 - **壓差監(jiān)控**：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)料斗進(jìn)/出風(fēng)壓差，自動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)機(jī)頻率，防止風(fēng)路堵塞。 --- #### **三、露點(diǎn)-50℃實(shí)現(xiàn)路徑** | **步驟** | **技術(shù)措施** | **露點(diǎn)變化** | |---------------------|----------------------------------------------------------------------------|-------------------------| | **